雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

雙靶直流磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	雙靶直流磁控濺射儀
濺射電源	安裝有兩個直流電源 直流（DC）電源：500W
真空腔體	真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作 觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
磁控濺射頭	儀器中安裝有 2 個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水 對靶材降溫 兩個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材
載樣臺	載樣臺尺寸：140mm dia.（*大可放置 4"的基底） 載樣臺可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)） 載樣臺*高可加熱溫度為 500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
氣體流量控制器	儀器內(nèi)部安裝有 2 個質(zhì)量流量計 量程為：0-200sccm
真空泵	配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S
水冷系統(tǒng)	16L/min.
電壓	220V 50HZ