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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):MPCVD單晶鉆石沉積設(shè)備培育鉆石

  • 產(chǎn)品型號(hào):TN-MPCVD
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
MPCVD化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶鉆石,化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石自支撐厚膜,化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石薄膜,MPCVD化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和鉆石膜等各種碳納米薄膜
詳情介紹:

適合的應(yīng)用:

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶鉆石

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石自支撐厚膜

化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石薄膜

化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和鉆石膜等各種碳納米薄膜

產(chǎn)品特點(diǎn): 

本產(chǎn)品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設(shè)備,功率密度高;

水冷式基片臺(tái)和水冷式金屬反映腔,保證系統(tǒng)能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作;

基片溫度以微波等離子體自加熱方式達(dá)到;

真空測(cè)量?jī)x表采用全量程真空計(jì),可**測(cè)量本底真空和工作氣體壓強(qiáng);

真空泵及閥門(mén)采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機(jī)械真空泵(極限真空為1Pa),系統(tǒng)可自動(dòng)控制沉積氣壓;

配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng),確保裝置高功率下可長(zhǎng)時(shí)間**穩(wěn)定運(yùn)行;

系統(tǒng)帶15寸觸摸屏,PLC自動(dòng)控制,可設(shè)置溫度或氣壓恒定,可保存復(fù)用多達(dá)20套工藝文件;

全自動(dòng)工藝控制模塊,可以穩(wěn)定可靠地制備高品質(zhì)鉆石薄膜和晶體

技術(shù)指標(biāo)與特性:

項(xiàng)目名稱(chēng)

規(guī)格

配置

主控單元

 

PLC 自動(dòng)程控

微波源

6kw  2.45Ghz

微波電源

微波發(fā)生器

波導(dǎo)

6kw

三銷(xiāo)釘

模式轉(zhuǎn)換器

6kw

 

諧振腔體

6kw

柱形水冷腔體

基臺(tái)

φ70mm

電動(dòng)升降

鉆石生長(zhǎng)基本參數(shù)

 

7x7mm   37

8x8mm   29

9x9mm   21

10x10mm  13

MFC(質(zhì)子流量計(jì))

5

Ch4  0-500sccm

H2   0-500sccm

N2  0-500sccm

Ar   0-500sccm

O2   0-500sccm

測(cè)溫元件

 

高精度紅外測(cè)溫儀

真空測(cè)量

 

高精度真空計(jì)

分子泵

 

默認(rèn)無(wú)/可選

氫氣純化

 

9N級(jí)

水循環(huán)

 

3P水冷機(jī)