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有關三靶磁控濺射的產品描述
日期：2026-03-03 12:34
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摘要：
三靶磁控濺射的產品描述：
1. 濺射室極限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系統真空檢漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系統從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 Pa；
4. 系統停泵關機12小時后真空度：≤5Pa
5. 濺射真空室1套，立式上開蓋結構，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不銹鋼結構，氬弧焊接，表面進行電化學拋光，內含防污內襯，可內烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內有照明系統
6. 磁控濺射系統 3套， 濺射室中配3套50mm高性能永磁共焦磁控濺射靶（濺射靶角度可調），各靶可獨立/順次/共同工作，磁控靶RF、DC、MF兼容，可以濺射磁性材料，磁控靶與基片距離可調，配備3套進口SMC旋轉氣動控制擋板組件；配2臺500w直流電源（不小于500W）和1臺全自動匹配射頻電源（不小于500W）；提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉基片臺 1套，樣品臺可放置不小于100mm樣品1片，具有連續旋轉功能，旋轉0—30轉/分連續可調。基片加熱溫度：室溫—500°C連續可調，由熱電偶閉環反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為PID自動控溫及數字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套，包含：100SCCM、20SCCM質量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路； DN16充氣閥、管路、接頭等2路；
10. 抽氣機組及閥門、管道 1套，包含1臺進口復合分子泵及變頻控制電源（680L/s ，德國普發Hipace700分子泵）；1臺機械泵（4L/S） ，1臺DN40氣動截止閥，機械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動閘板閥1臺（用于復合分子泵與真空室隔離），節流閥1臺，DN40旁抽氣閥1臺，壓差式充氣閥1臺；管道采用不銹鋼三通及波紋管，
11. 安裝機臺架組件 1套，由**方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾，四只腳輪，可固定，可移動。
12. 真空測量系統 1套，濺射室采用進口INFICON復合計進行測量。
13. 具備對泵、靶、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統。
14. 系統采用PLC+工控機+觸摸屏全自動控制方式，可進行自動抽氣及程序設定、計算機實時顯示記錄真空度及加熱溫度、計算機設定顯示直流電源、射頻電源功率參數、計算機設定顯示MFC的設定控制等、計算機設定顯示當班狀態、樣品轉速等。
15. 配備循環水機一臺、靜音空壓機一臺，專用工具（含工具箱）1套，備品備件 1套