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三溫區三通道CVD混洗系統 TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE認證的三溫區管式爐CVD系統，其管徑為80mm，采用機械泵，它是由管式爐，...
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等離子增強型CVD系統 TN-O1200-50IS-PECVD是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流...
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四路質子混氣管式pecvd... 等離子體增強型化學氣相沉積（PECVD）技術是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄...
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CVD系統 該套CVD系統主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測量和等離子發生器四大部分構成。可以滿足日常的大多數CVD實驗和各種科研要...
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PECVD石墨烯薄膜制備系... PECVD石墨烯薄膜制備系統借助13.56MHz的射頻輸出等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內形成等離子體，利用...
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三溫區CVD氣相沉積系統 該三溫區CVD氣相沉積系統主要用于真空燒結、氣氛保護性燒結、真空鍍膜 各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實驗
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迷你石墨烯CVD實驗室設備 迷你石墨烯CVD實驗室設備采用1200℃迷你管式爐，功能齊全占地面積較小，迷你石墨烯CVD實驗室設備專為石墨烯生產設計。